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仪器设备
CSU-I型超高真空磁控溅射多功能涂层设备
该设备包括一套
HFCVD
系统和一套
PVD
系统。
HFCVD
系统装有反溅靶,可对基体进行反溅清洗,
PVD
系统配备有考夫曼离子枪、射频溅射靶、强磁直流溅射靶、励磁直流溅射靶、永磁直流溅射靶各一套,除可实现多靶共溅、反应溅射、低压溅射、离子注入、考夫曼离子枪清洗外,还配有磁控机械手对样品进行
CVD
与
PVD
之间的传递,从而实现
PVD
与
CVD
多层膜的制备。
超高真空热丝化学气相沉积系统(瑞典皇家工学院设计)
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